초록 ▼

본 발명은 반도체 장치의 리프트핀 지지대에 관한 것으로, 보다 상세하게는 공정챔버 내에 안착되는 서셉터의 측면에 형성된 리프트핀 홀을 통하여 승하강하는 리프트핀을 지지하기 위한 리프트 핀 지지대로서, 상기 리프트핀의 승하강에 따라 상기 리프트핀과 주기적으로 접촉하는 상단 커버와; 상기 공정챔버의 하단과 결합되며 상기 상단 커버와 다른 재질로 제조되는 하단 베이스를 포함하는 리프트 핀 지지대에 관한 것이다. 본 발명의 리프트핀 지지대는 상단이 리프트핀과 동일한 재질로 제조되어, 리프트핀의 반복적인 접촉에 의하여 마모되지 않기 때문에

본 발명은 반도체 장치의 리프트핀 지지대에 관한 것으로, 보다 상세하게는 공정챔버 내에 안착되는 서셉터의 측면에 형성된 리프트핀 홀을 통하여 승하강하는 리프트핀을 지지하기 위한 리프트 핀 지지대로서, 상기 리프트핀의 승하강에 따라 상기 리프트핀과 주기적으로 접촉하는 상단 커버와; 상기 공정챔버의 하단과 결합되며 상기 상단 커버와 다른 재질로 제조되는 하단 베이스를 포함하는 리프트 핀 지지대에 관한 것이다. 본 발명의 리프트핀 지지대는 상단이 리프트핀과 동일한 재질로 제조되어, 리프트핀의 반복적인 접촉에 의하여 마모되지 않기 때문에 공정챔버 내에서 파티클의 발생을 방지할 수 있다.

대표청구항

공정챔버의 내부에 위치하고 웨이퍼가 안착되는 서셉터와, 상기 서셉터를 관통하는 리프트 핀 홀을 통해 승강하여 상기 웨이퍼를 상기 서셉터에 안착시키거나 또는 상기 서셉터로부터 상기 웨이퍼를 분리시키는 리프트 핀을 포함하는 반도체 장치에 있어서,상기 공정챔버의 하부에 위치하고, 상기 리프트 핀의 승강에 따라 주기적으로 접촉하며 상기 리프트 핀과 동일한 재질로 형성되는 접촉부를 포함하는 리프트 핀 지지대.

공정챔버의 내부에 위치하고 웨이퍼가 안착되는 서셉터와, 상기 서셉터를 관통하는 리프트 핀 홀을 통해 승강하여 상기 웨이퍼를 상기 서셉터에 안착시키거나 또는 상기 서셉터로부터 상기 웨이퍼를 분리시키는 리프트 핀을 포함하는 반도체 장치에 있어서,상기 공정챔버의 하부에 위치하고, 상기 리프트 핀의 승강에 따라 주기적으로 접촉하며 상기 리프트 핀과 동일한 재질로 형성되는 접촉부를 포함하는 리프트 핀 지지대.