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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-7016624 (2003-12-19) |
공개번호 | 10-2004-0016889 (2004-02-25) |
등록번호 | 10-0868137-0000 (2008-11-04) |
국제출원번호 | PCT/JP2002/006061 (2002-06-18) |
국제공개번호 | WO2003000954 (2003-01-03) |
번역문제출일자 | 2003-12-19 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020037016624 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-05-02) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
과산화수소,광산,아졸류,은 이온 및 할로겐 이온을 함유하는 구리 및 구리 합금의 표면 처리제이다.전자 공업 분야에 있어서의 프린트 배선판 등의 제조에 유용한 구리 및 구리 합금의 표면 처리제를 제공한다.이 표면 처리제에 의하면,구리,구리 합금의 표면을 조화(roughening)할 수 있고,종래 곤란했던 도금된 경면(plate mirror surface)을 포함하는 구리 부착 기판에 균일하게 얼룩이 없는 조화 표면을 형성하고,에칭 레지스트,솔더 레지스트에 더하여,프리프레그,전자 부품 실장시(mounting)에 있어서의 수지와의 밀착성
과산화수소,광산,아졸류,은 이온 및 할로겐 이온을 함유하는 구리 및 구리 합금의 표면 처리제.청구항 1에 있어서,아졸류가 1H-테트라졸,5-메틸-1H-테트라졸, 5-페닐-lH-테트라졸 및 5-아미노-1H-테트라졸로 구성된 군으로부터 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 표면 처리제.청구항 1에 있어서,할로겐 이온이 염소 이온,브롬 이온 및 요오드 이온으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 표면 처리제.청구항 1에 있어서,아졸류를 0.01∼1 중량%,은 이온을 0.1∼3 ppm 및 할로겐 이온을 0.05∼10 p
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