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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2005-0092429 (2005-09-30) |
공개번호 | 10-2007-0037154 (2007-04-04) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020050092429 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 웨이퍼의 평탄화공정에 사용되는 플래튼의 평탄도 상태를 확인하여 손쉽게 조절할 수 있는 플래튼 평탄도 조절장치에 관한 것으로, 웨이퍼 연마를 위해 상부면에 연마패드가 장착된 플래튼; 상기 플래튼의 하부면을 지지하는 플래튼바디; 상기 플래튼의 하부면을 플래튼바디의 상부면으로부터 이격시킴으로써 플래튼의 평탄도를 조절할 수 있는 높이조절수단; 으로 이루어진 것을 특징으로 함으로써, 플래튼의 평탄도를 손쉽게 조절하여 수율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 높이조절을 눈으로 확인할 수 있어 편리하고 정확한 편평도 조절이 가능한 효과가
웨이퍼 연마를 위해 상부면에 연마패드가 장착된 플래튼;상기 플래튼의 하부면을 지지하는 플래튼바디;상기 플래튼의 하부면을 플래튼바디의 상부면으로부터 이격시킴으로써 플래튼의 평탄도를 조절할 수 있는 높이조절수단;으로 이루어진 것을 특징으로 하는 플래튼 평탄도 조절장치.
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