초록 ▼

본 고안은 웨이퍼 검사장비의 스테이지 평탄도 조절장치에 관한 것으로, 종래에는 Z스테이지의 사방에 얹혀지는 스테이지 고정뭉치를 관통하여 상기 Z스테이지 상면에 접촉되는 각각의 조절볼트를 스몰 스패너 등으로 돌려 스테이지의 평탄도를 조절하는 것으로, 이는 상기 각 조절볼트의 머리부가 마모로 인해 파손될 우려가 있는 것은 물론 각 조절볼트를 반복하여 조절하면서 보정량을 조절하기 때문에 작업시간이 길어지는 문제점이 있었던 바, 본 고안에서는 XY스테이지의 상면에 설치되는 스테이지 지지대에 Z스테이지가 유동가능하게 결합되고, 그 Z스테이지

본 고안은 웨이퍼 검사장비의 스테이지 평탄도 조절장치에 관한 것으로, 종래에는 Z스테이지의 사방에 얹혀지는 스테이지 고정뭉치를 관통하여 상기 Z스테이지 상면에 접촉되는 각각의 조절볼트를 스몰 스패너 등으로 돌려 스테이지의 평탄도를 조절하는 것으로, 이는 상기 각 조절볼트의 머리부가 마모로 인해 파손될 우려가 있는 것은 물론 각 조절볼트를 반복하여 조절하면서 보정량을 조절하기 때문에 작업시간이 길어지는 문제점이 있었던 바, 본 고안에서는 XY스테이지의 상면에 설치되는 스테이지 지지대에 Z스테이지가 유동가능하게 결합되고, 그 Z스테이지의 적당개소마다에 스테이지 고정뭉치가 얹혀지며, 그 각각의 스테이지 고정뭉치에 마이크로미터형 조절볼트가 Z스테이지의 상면에 접촉되도록 나사결합되어 각 조절볼트의 죔정도에 따라 스테이지의 평탄도가 조정되도록 함으로써, 상기 Z스테이지를 눌러주기 위한 죔수단이 파손되지 않게 함과 아울러 조절작업이 투여되는 작업시간을 최소화할 수 있는 효과가 있다.

대표청구항

XY스테이지의 상면에 설치되는 스테이지 지지대에 Z스테이지가 유동가능하게 결합되고, 그 Z스테이지의 적당개소마다에 스테이지 고정뭉치가 얹혀지는 반도체 검사장비의 스테이지 평탄도 조절장치에 있어서, 상기 각 스테이지 고정뭉치에 마이크로미터형 조절볼트가 Z스테이지의 상면에 접촉되도록 나사결합되어 각 조절볼트의 죔정도에 따라 스테이지의 평탄도가 조정되도록 하는 반도체 검사장비의 스테이지 평탄도 조절장치.

XY스테이지의 상면에 설치되는 스테이지 지지대에 Z스테이지가 유동가능하게 결합되고, 그 Z스테이지의 적당개소마다에 스테이지 고정뭉치가 얹혀지는 반도체 검사장비의 스테이지 평탄도 조절장치에 있어서, 상기 각 스테이지 고정뭉치에 마이크로미터형 조절볼트가 Z스테이지의 상면에 접촉되도록 나사결합되어 각 조절볼트의 죔정도에 따라 스테이지의 평탄도가 조정되도록 하는 반도체 검사장비의 스테이지 평탄도 조절장치.