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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2006-0041090 (2006-05-08) |
공개번호 | 10-2007-0108715 (2007-11-13) |
등록번호 | 10-1324646-0000 (2013-10-28) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060041090 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-04-18) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 액정표시장치 회로, 반도체 집적회로 등의 미세회로 제조에 사용되는 포토레지스트(photoresist) 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 a) 메타-크레졸, 파라-크레졸, 레조시놀 및 살리실릭 알데히드를 2 내지 5: 2 내지 5: 0.5 내지 3: 0.5 내지 3의 중량비로 사용하여 축합 중합된 것으로, 2,000 내지 10,000의 중량평균분자량을 갖는 노볼락 수지, b) 디아지드계 감광성 화합물, 및 c) 유기용매를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.본 발명에 따른 포토레지스트 조성물은 메타-크레졸(m
a) 메타-크레졸, 파라-크레졸, 레조시놀 및 살리실릭 알데히드를 2 내지 5: 2 내지 5: 0.5 내지 3: 0.5 내지 3의 중량비로 사용하여 축합 중합된 것으로, 2,000 내지 10,000의 중량평균분자량을 갖는 노볼락 수지;b) 디아지드계 감광성 화합물; 및 c) 유기용매를 포함하는 포토레지스트 조성물.
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