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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0085315 (2006-09-05) |
공개번호 | 10-2008-0021997 (2008-03-10) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060085315 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체장비의 배기라인 내벽에 복수개의 분사노즐을 설치하여 세정액을 일정시간 동안 순차적으로 분사시켜줌으로써 파우더가 고착되는 것을 방지할 수 있도록 한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 관한 것이다.이를 실현하기 위한 본 발명은 반도체장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서, 상기 배기라인 내부의 상측에 설치되어 하부 내벽을 향해 질소(N2)를 분사시키는 질소분사노즐; 상기 질소분사노즐에서 하측으로 소정 간격 이격되게 설치되어 각각 하측 방향으로 세정액을
반도체장비의 배기라인 내벽에 고착되는 파우더를 제거하기 위한 반도체장비 배기라인의 파우더 제거장치에 있어서,상기 배기라인 내부의 상측에 설치되어 하부 내벽을 향해 질소(N2)를 분사시키는 질소분사노즐;상기 질소분사노즐에서 하측으로 소정 간격 이격되게 설치되어 각각 하측방향으로 세정액을 분사시키는 복수개의 분사노즐;상기 복수개의 분사노즐에 세정액을 공급시키는 세정액공급관; 및상기 세정액공급관과 복수개의 각 분사노즐 사이에 각각 설치되어 세정액의 공급 또는 차단하는 역할을 하는 복수개의 밸브;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체장비
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