[특허]웨이퍼 이송 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 이송 방법

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[한국특허] 웨이퍼 이송 장치 및 이를 이용한 웨이퍼 이송 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/68
출원번호	10-2006-0098995 (2006-10-11)
공개번호	10-2008-0032896 (2008-04-16)
등록번호	10-0827676-0000 (2008-04-29)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020060098995
발명자 / 주소	고성근 / 경기 안산시 단원구 초지동 그린빌 단지 -* 고동선 / 경기 수원시 영통구 원천동 삼성아파트 동 *호 김호식 / 경기 용인시 풍덕천동 *번지 삼성차 아파트 *동 **호
출원인 / 주소	주식회사 아토 / 경기도 시흥시 정왕동 ***- 시화공단 다 **호
대리인 / 주소	이철희 (Lee, Cheol Hee) 서울 강남구 삼성동 *- 우경빌딩 ***호(가디언국제특허법률사무소)
심사청구여부	있음 (2006-10-11)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

웨이퍼 이송 장치에 대하여 개시한다.본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치는 EFEM(Equipment Front End Module), 로드락 모듈 및 프로세스 모듈을 구비하고, 특히, 상기 EFEM과 상기 로드락 모듈 간의 웨이퍼 이송은 대기압에서 진행되고, 상기 로드락 모듈과 프로세스 모듈 간의 웨이퍼 이송은 진공에서 진행된다. 상기 EFEM은 외부로부터 웨이퍼를 이송한다. 상기 로드락 모듈은 진공과 대기압으로 압력을 변화시키며, 상기 EFEM으로부터 웨이퍼를 이송한다. 상기 프로세스 모듈은 상기 로드락 모듈로부터 웨이퍼를 이송받아

대표청구항

외부로부터 웨이퍼를 이송하는 EFEM(EQUIPMENT FRONT END MODULE);진공과 대기압으로 압력을 변화시키며, 상기 EFEM(10)으로부터 웨이퍼를 이송하는 로드락 모듈; 및상기 로드락 모듈로부터 웨이퍼를 이송받아 소정의 공정을 진행하는 프로세스 모듈을 구비하고,상기 EFEM과 상기 로드락 모듈 간의 웨이퍼 이송은 대기압에서 진행되고, 상기 로드락 모듈과 프로세스 모듈 간의 웨이퍼 이송은 진공에서 진행되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

[일본] SINGLE WAFER ION BEAM MILLING APPARATUS AND HOLDER FOR THE SAME APPARATUS | HASHIMOTO ISAO, OISHI SEITARO
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[한국] 진공처리장치 | 이케다도오루, 이타와테루오
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이 특허를 인용한 특허 (1)

[한국] 기판 처리 장치 및 기판 반입 방법 | 김성호, 구교욱, 배성호
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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