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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2007-0137242 (2007-12-26) |
공개번호 | 10-2009-0069543 (2009-07-01) |
등록번호 | 10-0954909-0000 (2010-04-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070137242 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-12-26) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
실시예에 따른 MIM 커패시터의 제조 방법은 하부 금속배선층 위에 유전체층이 형성되는 단계; 상기 유전체층에 트렌치가 형성되는 단계; 상기 트렌치가 매립되도록 하여 상기 유전체층 위에 제3 금속층이 형성되는 단계; 상기 유전체층 및 상기 제3 금속층을 패터닝하여 상기 트렌치를 포함하는 유전체층 패턴 및 제3 금속층 패턴이 형성되는 단계; 상기 유전체층 패턴 및 상기 제3 금속층 패턴이 덮히도록 하여 상기 하부 금속배선층 위에 절연층이 형성되는 단계; 상기 절연층을 관통하여 상기 제3 금속층 패턴과 접촉되는 상부 금속배선층이 형성되는
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