초록 ▼

본 발명은 반도체 제조공정 중 발생되는 폐가스를 처리하여 유독성분을 제거하기 위한 가스 스크러버 내부에 설치되는 히터를 판형으로 형성하고, 히터의 표면에는 스크레이퍼를 구비하여 파우더를 제거함으로써 폐가스와 히터간의 전열면적과 전열시간을 증대시키고, 적은 용적을 차지하면서도 폐가스의 처리 효율을 증대시킬 수 있도록 하는 스크레이퍼를 구비한 판형 히터를 포함한 수평형 가스 스크러버에 관한 것이다. 이를 실현하기 위한 본 발명은, 반도체 제조공정 중 배출되는 폐가스를 처리하여 유독성분을 제거하기 위한 가스 스크러버에 있어서, 일측의 가

본 발명은 반도체 제조공정 중 발생되는 폐가스를 처리하여 유독성분을 제거하기 위한 가스 스크러버 내부에 설치되는 히터를 판형으로 형성하고, 히터의 표면에는 스크레이퍼를 구비하여 파우더를 제거함으로써 폐가스와 히터간의 전열면적과 전열시간을 증대시키고, 적은 용적을 차지하면서도 폐가스의 처리 효율을 증대시킬 수 있도록 하는 스크레이퍼를 구비한 판형 히터를 포함한 수평형 가스 스크러버에 관한 것이다. 이를 실현하기 위한 본 발명은, 반도체 제조공정 중 배출되는 폐가스를 처리하여 유독성분을 제거하기 위한 가스 스크러버에 있어서, 일측의 가스유입구를 통해 유입되는 폐가스의 수평방향 이동을 유도하면서 폐가스를 일정 온도 이상으로 가열시켜 열분해되도록 하는 판형 히터가 상하로 다층 배치됨과 아울러 상기 폐가스 중에 함유된 파우더를 걸러내기 위한 파우더메쉬가 구비된 가열챔버; 상기 가열챔버를 통과한 고온의 폐가스를 물과의 반응으로 희석시켜 배출하기 위한 습식챔버;및 상기 가열챔버와 상기 습식챔버의 일측으로 연통되며, 내측에는 덕트로 배기되는 폐가스에 물을 분사하는 노즐이 구비된 배기관;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

반도체 제조공정 중 배출되는 폐가스를 처리하여 유독성분을 제거하기 위한 가스 스크러버에 있어서,일측의 가스유입구를 통해 유입되는 폐가스의 수평방향 이동을 유도하면서 폐가스를 일정 온도 이상으로 가열시켜 열분해되도록 하는 판형 히터가 상하로 다층 배치됨과 아울러 상기 폐가스 중에 함유된 파우더를 걸러내기 위한 파우더메쉬가 구비된 가열챔버;상기 가열챔버를 통과한 고온의 폐가스를 물과의 반응으로 희석시켜 배출하기 위한 습식챔버;및상기 가열챔버와 상기 습식챔버의 일측으로 연통되며, 내측에는 덕트로 배기되는 폐가스에 물을 분사하는 노즐이 구

반도체 제조공정 중 배출되는 폐가스를 처리하여 유독성분을 제거하기 위한 가스 스크러버에 있어서,일측의 가스유입구를 통해 유입되는 폐가스의 수평방향 이동을 유도하면서 폐가스를 일정 온도 이상으로 가열시켜 열분해되도록 하는 판형 히터가 상하로 다층 배치됨과 아울러 상기 폐가스 중에 함유된 파우더를 걸러내기 위한 파우더메쉬가 구비된 가열챔버;상기 가열챔버를 통과한 고온의 폐가스를 물과의 반응으로 희석시켜 배출하기 위한 습식챔버;및상기 가열챔버와 상기 습식챔버의 일측으로 연통되며, 내측에는 덕트로 배기되는 폐가스에 물을 분사하는 노즐이 구비된 배기관;을 포함하며상기 판형 히터는, 상기 판형 히터의 상면에 접촉된 상태로 수평 이동 가능하게 설치되어, 상기 판형 히터의 상면에 부착되는 폐가스의 파우더를 제거하기 위한 스크레이퍼가 구비된 것을 특징으로 하는 스크레이퍼를 구비한 판형 히터를 포함한 수평형 가스 스크러버..