[특허]포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성 방법

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	G03F-007/022 G03F-007/039 H01L-021/027
출원번호	10-2010-0026442 (2010-03-24)
공개번호	10-2011-0107214 (2011-09-30)
등록번호	10-1737798-0000 (2017-05-15)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020100026442
발명자 / 주소	박정인 / 경기도 수원시 권선구 곡반정동 - *호 이희국 / 경기도 용인시 처인구 양지면 한터로번길 * 윤상현 / 경기도 수원시 팔달구 장다리로*번길 (인계동) 김차동 / 충청남도 천안시 서북구 성정공원길 -* *호 (성정동,시떼베르오피스텔) 성시진 / 전라북도 익산시 약촌로 , 동우화인켐 전자재료연구소 (신흥동) 진성열 / 전라북도 익산시 약촌로 , 동우화인켐 전자재료연구소 (신흥동) 김상태 / 전라북도 익산시 약촌로 , 동우화인켐 전자재료연구소 (신흥동) 김용일 / 전라북도 익산시 약촌로 , 동우화인켐 전자재료연구소 (신흥동) 이은상 / 전라북도 익산시 약촌로 *, 동우화인켐 전자재료연구소 (신흥동)
출원인 / 주소	삼성디스플레이 주식회사 / 경기도 용인시 기흥구 삼성로 * (농서동) 동우 화인켐 주식회사 / 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
대리인 / 주소	특허법인가산
심사청구여부	있음 (2015-02-12)
심사진행상태	등록결정(재심사후)
법적상태	등록

초록

높은 프로파일 앵글을 갖는 포토레지스트 패턴을 형성하는데 적합한 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법이 제공된다. 포토레지스트 조성물은, 알칼리 가용성 수지, 퀴논디아지드기를 포함하는 화합물, 하기의 화학식 1의 화합물, 및 용매를 포함한다.<화학식 1>(단. 상기 화학식 1에서 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 2 내지 4의 알케닐기, 탄소수 3 내지 8의 사이클로알킬기, 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이다.)

대표청구항

알칼리 가용성 수지;퀴논디아지드기를 포함하는 화합물;하기의 화학식 1의 화합물; 및용매를 포함하는 포토레지스트 조성물.<화학식 1>(단. 상기 화학식 1에서 R1, R2 및 R3는 각각 하기 화학식 2로 표현된다.)<화학식 2>

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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