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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2010-0131931 (2010-12-21) |
| 공개번호 | 10-2012-0070393 (2012-06-29) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020100131931 |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2010-12-21) |
| 심사진행상태 | 거절결정(일반) |
| 법적상태 | 거절 |
본 발명은 NO2를 포함하는 가스로부터 질산 회수율을 향상시키는 질산 회수율 향상방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 NO2의 산화제로 H2O 및 O2를 사용하여 질산 회수율을 향상시키는 질산 회수율 향상방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 질산 회수율 향상방법은, 스크러버 장치 내부의 NOx 가스를 질산으로 회수하는 질산 회수율 향상방법에 있어서, (a) 스크러버 장치 내부를 가압 조건으로 하며, 상기 스크러버 장치 내부로 질산 수용액을 분사하는 단계; 및 (b) 상기 스크러버 장치로부터 질산을 회수하는
스크러버 장치 내부의 NOx 가스를 질산으로 회수하는 질산 회수율 향상방법에 있어서,(a) 스크러버 장치 내부를 가압 조건으로 하며, 상기 스크러버 장치 내부로 질산 수용액을 분사하는 단계; 및(b) 상기 스크러버 장치로부터 질산을 회수하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 질산 회수율 향상방법.
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