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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0052360 (2011-05-31) |
공개번호 | 10-2012-0133627 (2012-12-11) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110052360 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 포지티브 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 CD 변화가 적고, 패턴형상, 감도, 열안정성 및 내화학성이 우수한 포지티브 고감도 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
(A) 중량 평균 분자량이 폴리스티렌으로 환산하여 1000 내지 5000이며, 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 알칼리 가용성 수지;(B) 제 2 알칼리 가용성 수지;(C) 용해억제제; (D) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 첨가제; 및(E) 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브 고감도 포토레지스트 조성물.[화학식 1]상기 화학식 1에서,R9 내지 R14는 각각 독립적으로 수소, C1-C6의 선형 또는 분지형 알킬기, C1-C6의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 C3-C6의 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되
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