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연합인증

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포지티브 고감도 포토레지스트 조성물 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • G03F-007/039
  • G03F-007/004
출원번호 10-2011-0052360 (2011-05-31)
공개번호 10-2012-0133627 (2012-12-11)
DOI http://doi.org/10.8080/1020110052360
발명자 / 주소
  • 이은상 / 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
  • 임민주 / 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
  • 김용일 / 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
출원인 / 주소
  • 동우 화인켐 주식회사 / 전라북도 익산시 약촌로 *** (신흥동)
대리인 / 주소
  • 한양특허법인
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명은 포지티브 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 CD 변화가 적고, 패턴형상, 감도, 열안정성 및 내화학성이 우수한 포지티브 고감도 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

(A) 중량 평균 분자량이 폴리스티렌으로 환산하여 1000 내지 5000이며, 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 알칼리 가용성 수지;(B) 제 2 알칼리 가용성 수지;(C) 용해억제제; (D) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 첨가제; 및(E) 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 포지티브 고감도 포토레지스트 조성물.[화학식 1]상기 화학식 1에서,R9 내지 R14는 각각 독립적으로 수소, C1-C6의 선형 또는 분지형 알킬기, C1-C6의 선형 또는 분지형 알콕시기 및 C3-C6의 시클로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되

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