초록 ▼

본 발명은 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치에 관한 것으로, CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치에 있어서, 소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버, 상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로, 상기 반응로를 주변에 구비되는 히터부, 상기 반응로 내로 코팅체를 공급하는 것으로, 공급되는 상기 코팅체의 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되되, 상기 예열로를

본 발명은 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치에 관한 것으로, CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치에 있어서, 소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버, 상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로, 상기 반응로를 주변에 구비되는 히터부, 상기 반응로 내로 코팅체를 공급하는 것으로, 공급되는 상기 코팅체의 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되되, 상기 예열로를 따라 연장된 후 일부 구간이 상기 반응로를 감싸도록 구성되어 내부에 흐르는 코팅체가 상기 히터부로부터 열을 공급받도록 구성되는 공급로, 상기 공급로를 통해 공급된 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기로 및 상기 반응로 바닥면에 구비되는 것으로, 상기 피 코팅물을 외부로 배출시키기 위해 선택적으로 개방되는 배출로를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명은 공급로의 예열로를 통해 진공챔버 내부의 온도를 저해하지 않으며, 공급가스의 압력으로 구형의 코팅 대상물질을 믹싱하여 효과적으로 고르게 코팅할 수 있는 이점이 있다.

대표청구항 ▼

CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치에 있어서,소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버;상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로;상기 반응로를 주변에 구비되는 히터부;상기 반응로 내로 코팅체를 공급하는 것으로, 공급되는 상기 코팅체의 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되되, 상기 예열로를 따라 연장된 후 일부 구간이 상기 반응로를 감싸도록 구성되어 내부에 흐르는 코

CVD(Chemical Vapor Deposition) 장치에 있어서,소정크기로 그 내부에 진공분위기를 형성하는 진공챔버;상기 진공챔버 내부에 구비되는 것으로, 피 코팅물을 수용하는 반응로;상기 반응로를 주변에 구비되는 히터부;상기 반응로 내로 코팅체를 공급하는 것으로, 공급되는 상기 코팅체의 압력에 의해 상기 피 코팅물을 믹싱하기 위해 노즐이 상기 반응로의 바닥면에 근접하게 위치하고, 상기 진공챔버 상부측으로 구비된 예열로 내에 구비되되, 상기 예열로를 따라 연장된 후 일부 구간이 상기 반응로를 감싸도록 구성되어 내부에 흐르는 코팅체가 상기 히터부로부터 열을 공급받도록 구성되는 공급로;상기 공급로를 통해 공급된 가스를 외부로 배출시키기 위한 배기로; 및상기 반응로 바닥면에 구비되는 것으로, 상기 피 코팅물을 외부로 배출시키기 위해 선택적으로 개방되는 배출로;를 포함하고,상기 배출로는, 선택적으로 결합되는 배출로드를 삽입 결합하여 배출로를 폐쇄시키고, 코팅체 배출 시 상기 배출로드를 분리하여 코팅체를 배출시키되,상기 배출로드는, 상기 반응로로 삽입되는 방향에 해당하는 끝단면이 상기 공급로와 마주하며, 상기 끝단면은, 곡률을 가지는 골과 산으로 이루어진 회오리 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 구형체 물질의 고른 코팅을 위한 CVD 장치.