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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0053954 (2014-05-07) | |
등록번호 | 10-1472404-0000 (2014-12-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140053954 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-05-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 반도체 제조 공정인 CVD(Chemical Vapor Deposition) 공정에 사용되는 질화알루미늄(AlN) 세라믹히터의 제조방법 및 이에 의해 제조된 반도체 제조용 질화알루미늄(AlN) 세라믹히터에 관한 것으로, 누설전류 감소 및 색상 균일도 향상용 조성물을 제조하는 단계(단계 1); 그래파이트 몰드(Graphite mold)에 상기 단계 1에서 제조된 조성물을 충진하여 제1 Powder층을 형성하는 단계(단계 2); 상기 제1 Powder층 위에 RF전극을 적층하는 단계(단계 3); 상기 RF전극 위에 상기 단계
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