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[한국특허] 이온빔 소스 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01J-037/08
  • H01J-027/02
출원번호 10-2014-0073485 (2014-06-17)
공개번호 10-2015-0144557 (2015-12-28)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140073485
발명자 / 주소
  • 김종국 / 경상남도 창원시 성산구 비음로 *** 사파동성아파트 ***동 ***호
  • 김기택 / 대전광역시 대덕구 대화*길 *
  • 이승훈 / 경상남도 창원시 성산구 원이대로***번길 * 재료연구소아파트 ***호
  • 강용진 / 경상남도 사천시 용현면 죽천강길 ** 동강아뜨리에아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 한국기계연구원 / 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
대리인 / 주소
  • 이동건
심사청구여부 있음 (2014-06-17)
심사진행상태 거절결정(재심사)
법적상태 거절

초록

이온빔 소스는 양극 및 방전 공간을 형성하기 위해 상기 양극의 상방에 제1 간격만큼 이격되도록 제1 음극 및 제2 음극이 배치되고, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 상기 방전 공간에서 형성된 이온빔을 인출하기 위해 서로 제2 간격만큼 이격되는 음극을 포함한다. 상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 방전 공간을 확장하기 위해 상기 양극과 마주보는 저면과 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면이 만나는 모서리에 제1 경사부를 갖는다. 따라서, 상기 이온빔 소스의 방전 공간을 크게 하여 인출되는 이온빔의 양을 증가

대표청구항

양극; 및방전 공간을 형성하기 위해 상기 양극의 상방에 제1 간격만큼 이격되도록 제1 음극 및 제2 음극이 배치되고, 상기 제1 음극 및 제2 음극은 상기 방전 공간에서 형성된 이온빔을 인출하기 위해 서로 제2 간격만큼 이격되는 음극을 포함하고,상기 제1 음극 및 제2 음극은 각각, 상기 방전 공간을 확장하기 위해 상기 양극과 마주보는 저면과 상기 제1 음극과 상기 제2 음극이 서로 마주보는 측면이 만나는 모서리에 제1 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 이온빔 발생장치 | 김도근, 김종국, 강재욱, 김창수, 이승훈
  2. [미국] Closed drift ion source | Madocks, John
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