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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0059622 (2016-05-16) |
공개번호 | 10-2017-0128925 (2017-11-24) |
등록번호 | 10-1827366-0000 (2018-02-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160059622 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-05-16) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 고단차 연마용 슬러리 조성물에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 고단차 연마용 슬러리 조성물은 양전하로 분산된 금속산화물 연마입자를 포함하는 연마액; 및 양전하로 활성화될 수 있는 원소를 하나 이상 포함하는 고분자 중합체를 포함하는 첨가액;을 포함하고, 볼록부와 오목부를 갖는 산화막 패턴 웨이퍼에서의 단차 제거 속도와 산화막 평판 웨이퍼에서의 제거 속도의 연마 선택비가 5:1 이상인 것이다.
양전하로 분산된 금속산화물 연마입자를 포함하는 연마액; 및양전하로 활성화될 수 있는 원소를 하나 이상 포함하는 고분자 중합체를 포함하는 첨가액;을 포함하고,볼록부와 오목부를 갖는 산화막 패턴 웨이퍼에서의 단차 제거 속도와 산화막 평판 웨이퍼에서의 제거 속도의 연마 선택비가 5:1 이상인 것이고,상기 산화막 패턴 웨이퍼에서의 볼록부와 오목부의 제거 속도 선택비는 5:1 이상인 것인, 고단차 연마용 슬러리 조성물.
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