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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0061678 (2017-05-18) | |
공개번호 | 10-2018-0126810 (2018-11-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170061678 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 투명 기판 상에 차광성막 및 하드필름이 구비된 블랭크 마스크로서, 전이금속을 포함하지 않는 실리콘 타겟을 이용하여 차광성막을 형성하되, 상기 차광성막을 투과율 제어층인 차광막과 반사율 제어층인 반사방지막을 포함하는 다층막으로 구성함으로써, 파장 193㎚ 의 광에 대하여 광학 밀도가 2.50 이상, 반사율 40% 이하이며, 막 두께가 60㎚ 이하인 차광성막을 포함하는 블랭크 마스크 및 이를 이용하는 포토 마스크를 제공한다.본 발명에 따른 차광성막은 화학적 세정에 대한 내약품성과 ArF 노광광에 대한 내노광성이 우수하여, 특
투명 기판; 및 상기 투명 기판 상에 구비되며, 전이금속을 함유되지 않은 실리콘(Si)계 재료로 이루어지는 차광성막; 을 포함하는 블랭크 마스크.
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