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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-0132113 (2017-10-12) | |
공개번호 | 10-2019-0041097 (2019-04-22) | |
등록번호 | 10-2283219-0000 (2021-07-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020170132113 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-11-11) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
웨이퍼 위치 측정 장치 및 방법에 관한 기술이다. 개시된 웨이퍼 위치 측정 장치는 상부가 개방되며 반응 공간을 형성하기 위한 하부벽 및 내측벽을 구비하는 반응 챔버와, 상기 반응 공간내에 위치되며 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 안착 플레이트를 포함하는 웨이퍼 처리 장치의 웨이퍼 안착 위치를 모니터링하기 위한 위치 측정 장치로서, 상기 반응 챔버 상부에 장착되는 지그 조립체; 상기 지그 조립체에 구비되어 상기 반응 공간 내부를 모니터링하도록 구비되는 복수의 뷰 포트; 및 상기 뷰 포트 각각에 대응되어 설치되고, 상기 웨이퍼의 안착 위치를
상부가 개방되며 반응 공간을 형성하기 위한 하부벽 및 내측벽을 구비하는 반응 챔버와, 상기 반응 공간내에 위치되며 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 안착 플레이트를 포함하는 웨이퍼 처리 장치의 웨이퍼 안착 위치를 측정하기 위한 웨이퍼 위치 측정 장치로서, 상기 반응 챔버 상부에 장착되는 지그 조립체;상기 지그 조립체에 구비되어 상기 반응 공간 내부를 모니터링하도록 구비되는 복수의 뷰 포트; 상기 뷰 포트 각각에 대응되어 설치되고, 상기 웨이퍼의 안착 위치를 측정하는 복수의 비전 카메라; 및상기 웨이퍼의 위치를 모니터링하도록 구성되는 판단 블
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