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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2018-0020986 (2018-02-22) | |
공개번호 | 10-2018-0101183 (2018-09-12) | |
등록번호 | 10-2512488-0000 (2023-03-16) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020170027592 (2017-03-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020180020986 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-01-19) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인체에 유해한 독성 물질이 포함되어 있지 않으며, 박리된 레지스트의 용해력이 우수하여 필터 막힘 등의 공정상 문제를 최소화하며, 금속 배선의 부식을 최소화할 수 있는 포토레지스트 제거용 박리액 조성물에 관한 것이다.
N-에틸포름아마이드; 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 아민 화합물; 및 디프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌 글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌 글리콜 모노프로필에테르 및 디프로필렌 글리콜 모노부틸에테르에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 포함하는 제 1 극성용매;를 포함하는 포토레지스트 제거용 박리액 조성물로서,상기 N-에틸포름아마이드는 조성물 전체 함량 중 40 내지 90 중량%로 포함하며, 상기 제 1 아민 화합물은 1 내지 50 중량%, 상기 제 1 극성용매는 1 내지 40 중량%로 포함하는 것인, 포토레
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