초록 ▼

에칭에 의하여 포토마스크를 제작했을 때 고정밀도의 마스크 패턴이 얻어지고, 또한 포토마스크를 사용하여 표시 장치를 제작할 때, 표시 불균일을 억제할 수 있는 광학 특성을 만족시키는 포토마스크 블랭크를 제공한다.표시 장치 제조용의 포토마스크를 제작할 때 사용되는 포토마스크 블랭크이며, 노광 광에 대하여 실질적으로 투명한 재료를 포함하는 투명 기판과, 투명 기판 상에 형성되고, 노광 광에 대하여 실질적으로 불투명한 재료를 포함하는 차광막을 갖고, 차광막은 투명 기판측으로부터 제1 반사 억제층과 차광층과 제2 반사 억제층을 구비하고, 제

에칭에 의하여 포토마스크를 제작했을 때 고정밀도의 마스크 패턴이 얻어지고, 또한 포토마스크를 사용하여 표시 장치를 제작할 때, 표시 불균일을 억제할 수 있는 광학 특성을 만족시키는 포토마스크 블랭크를 제공한다.표시 장치 제조용의 포토마스크를 제작할 때 사용되는 포토마스크 블랭크이며, 노광 광에 대하여 실질적으로 투명한 재료를 포함하는 투명 기판과, 투명 기판 상에 형성되고, 노광 광에 대하여 실질적으로 불투명한 재료를 포함하는 차광막을 갖고, 차광막은 투명 기판측으로부터 제1 반사 억제층과 차광층과 제2 반사 억제층을 구비하고, 제1 반사 억제층은 크롬과 산소와 질소를 함유하는 크롬계 재료이고, 크롬의 함유율이 25 내지 75원자%, 산소의 함유율이 15 내지 45원자%, 질소의 함유율이 10 내지 30원자%인 조성을 갖고, 차광층은 크롬과 질소를 함유하는 크롬계 재료이고, 크롬의 함유율이 70 내지 95원자%, 질소의 함유율이 5 내지 30원자%인 조성을 갖고, 제2 반사 억제층은 크롬과 산소와 질소를 함유하는 크롬계 재료이고, 크롬의 함유율이 30 내지 75원자%, 산소의 함유율이 20 내지 50원자%, 질소의 함유율이 5 내지 20원자%인 조성을 갖고, 차광막의 표면 및 이면의 상기 노광 광의 노광 파장에 대한 반사율이 각각 10% 이하이고, 또한 광학 농도가 3.0 이상으로 되도록 제1 반사 억제층, 차광층 및 제2 반사 억제층의 막 두께가 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크.

대표청구항 ▼

표시 장치 제조용의 포토마스크를 제작할 때 사용되는 포토마스크 블랭크이며,노광 광에 대하여 실질적으로 투명한 재료를 포함하는 투명 기판과,상기 투명 기판 상에 형성되고, 상기 노광 광에 대하여 실질적으로 불투명한 재료를 포함하는 차광막을 갖고,상기 차광막은 상기 투명 기판측으로부터 제1 반사 억제층과 차광층과 제2 반사 억제층을 구비하고,상기 제1 반사 억제층은 크롬과 산소와 질소를 함유하는 크롬계 재료이고, 크롬의 함유율이 25 내지 75원자%, 산소의 함유율이 15 내지 45원자%, 질소의 함유율이 10 내지 30원자%인 조성을

표시 장치 제조용의 포토마스크를 제작할 때 사용되는 포토마스크 블랭크이며,노광 광에 대하여 실질적으로 투명한 재료를 포함하는 투명 기판과,상기 투명 기판 상에 형성되고, 상기 노광 광에 대하여 실질적으로 불투명한 재료를 포함하는 차광막을 갖고,상기 차광막은 상기 투명 기판측으로부터 제1 반사 억제층과 차광층과 제2 반사 억제층을 구비하고,상기 제1 반사 억제층은 크롬과 산소와 질소를 함유하는 크롬계 재료이고, 크롬의 함유율이 25 내지 75원자%, 산소의 함유율이 15 내지 45원자%, 질소의 함유율이 10 내지 30원자%인 조성을 갖고,상기 차광층은 크롬과 질소를 함유하는 크롬계 재료이고, 크롬의 함유율이 70 내지 95원자%, 질소의 함유율이 5 내지 30원자%인 조성을 갖고,상기 제2 반사 억제층은 크롬과 산소와 질소를 함유하는 크롬계 재료이고, 크롬의 함유율이 30 내지 75원자%, 산소의 함유율이 20 내지 50원자%, 질소의 함유율이 5 내지 20원자%인 조성을 갖고,상기 차광막의 표면 및 이면의 상기 노광 광의 노광 파장에 대한 반사율이 각각 10% 이하이고, 또한 광학 농도가 3.0 이상으로 되도록 상기 제1 반사 억제층, 상기 차광층 및 상기 제2 반사 억제층의 막 두께가 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크.