초록 ▼

[과제] 2층 구성의 적층막을 다른 챔버를 분배하는 일 없이 성막할 수 있어서, 생산 효율을 높일 수 있는 스퍼터 성막 장치 및 성막 방법을 제공한다.[해결 수단] 한 쌍의 타겟 유닛이, 각 타겟으로부터의 타겟 입자의 비산 영역이 겹치지 않도록, 상기 피처리 기판과의 상대 이동 방향으로 소정 간격을 사이에 두고 병렬로 배치되어 있고, 한 쌍의 타겟 유닛은 일체로 되어 동시에 이동하고, 상대 이동 방향의 선두 측에 위치하는 타겟 유닛에 의해 상기 피처리 기판 상에 형성된 제1층의 막 상에, 후방에 위치하는 타겟 유닛에 의해 제2층의

[과제] 2층 구성의 적층막을 다른 챔버를 분배하는 일 없이 성막할 수 있어서, 생산 효율을 높일 수 있는 스퍼터 성막 장치 및 성막 방법을 제공한다.[해결 수단] 한 쌍의 타겟 유닛이, 각 타겟으로부터의 타겟 입자의 비산 영역이 겹치지 않도록, 상기 피처리 기판과의 상대 이동 방향으로 소정 간격을 사이에 두고 병렬로 배치되어 있고, 한 쌍의 타겟 유닛은 일체로 되어 동시에 이동하고, 상대 이동 방향의 선두 측에 위치하는 타겟 유닛에 의해 상기 피처리 기판 상에 형성된 제1층의 막 상에, 후방에 위치하는 타겟 유닛에 의해 제2층의 막을 적층하는 구성으로 되어 있다.

대표청구항 ▼

챔버와,당해 챔버 내에, 피처리 기판과 상대 이동 가능하게 배치되는 한 쌍의 타겟 유닛을 구비하고,상기 타겟 유닛은, 타겟과, 전원으로부터 전력이 공급되는 전극 부재와, 상기 타겟의 상기 피처리 기판과 대향하는 측의 표면에 자장을 형성하는 자석을 구비하고,상기 타겟 유닛과 피처리 기판을 상대 이동시켜 성막하는 스퍼터 성막 장치로서,상기 한 쌍의 타겟 유닛은, 각 타겟으로부터의 타겟 입자의 비산 영역이 겹치지 않도록, 상기 피처리 기판과의 상대 이동 방향으로 소정 간격을 사이에 두고 병렬로 배치되어 있고,상기 한 쌍의 타겟 유닛은 일

챔버와,당해 챔버 내에, 피처리 기판과 상대 이동 가능하게 배치되는 한 쌍의 타겟 유닛을 구비하고,상기 타겟 유닛은, 타겟과, 전원으로부터 전력이 공급되는 전극 부재와, 상기 타겟의 상기 피처리 기판과 대향하는 측의 표면에 자장을 형성하는 자석을 구비하고,상기 타겟 유닛과 피처리 기판을 상대 이동시켜 성막하는 스퍼터 성막 장치로서,상기 한 쌍의 타겟 유닛은, 각 타겟으로부터의 타겟 입자의 비산 영역이 겹치지 않도록, 상기 피처리 기판과의 상대 이동 방향으로 소정 간격을 사이에 두고 병렬로 배치되어 있고,상기 한 쌍의 타겟 유닛은 일체로 되어 동시에 이동하고, 상대 이동 방향의 선두 측에 위치하는 타겟 유닛에 의해 상기 피처리 기판 상에 형성된 제1층의 막 상에, 후방에 위치하는 타겟 유닛에 의해 제2층의 막을 적층하는 구성으로 되어 있으며,상기 자석은, 상기 상대 이동 방향에 대해서 직교하는 방향으로 연장하는 중심 자석과, 당해 중심 자석을 둘러싸는 주변 자석과, 요크판을 구비하고, 상기 주변 자석은 중심 자석과 평행하게 연장되는 한 쌍의 직선부를 가지며,적어도 일방의 타겟 유닛의 자석에 있어서의 주변 자석의 중심 자석에 대한 타방의 타겟 유닛 측의 부분의 자화 방향이, 상기 피처리 기판의 성막면에 대해서 수직보다도, 타방의 타겟 유닛 측에 대해서 반대 측으로 기울어 있고,상기 직선부는 요크판으로부터 직선적으로 일어서 있고, 상기 한 쌍의 타겟 유닛에 있어서의 상기 직선부의 측면 끼리가 상기 피처리 기판의 성막면을 향해서 간격이 넓어지는 방향으로 경사지고,상기 전원은, 바이폴러 전원이며, 상기 한 쌍의 타겟 유닛의 캐소드에 역극성의 파형을 출력시키고, 또한, 듀티비를 제어하여, 제1층과 제2층의 막두께를 독립적으로 제어가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 스퍼터 성막 장치.