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대기압 플라즈마용 멀티형 전극 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H05H-001/24
출원번호 10-2019-0070240 (2019-06-13)
공개번호 10-2019-0141613 (2019-12-24)
등록번호 10-2241621-0000 (2021-04-13)
우선권정보 대한민국(KR) 1020180068197 (2018-06-14)
DOI http://doi.org/10.8080/1020190070240
발명자 / 주소
  • 이해룡 / 경기도 수원시 영통구 센트럴타운로 **, ***동 ****호
  • 박남규 / 경기도 안양시 만안구 연현로**번길 **, ***동 ***호
  • 김영도 / 경기도 안산시 상록구 성호로 **, ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 다원시스 / 경기도 안산시 단원구 시화호수로 *** (성곡동)
대리인 / 주소
  • 김한
심사청구여부 있음 (2019-06-13)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 복수개의 단위 전극 기판을 연결함으로써 소형 전극부터 대형 전극까지 운영할 수 있는 대기압 플라즈마용 멀티형 전극 장치에 관한 것으로서, 내부에 수용 공간이 형성되는 케이스; 상기 케이스에 설치되고, 상기 수용 공간에 공정 가스를 공급할 수 있는 가스 공급관; 상기 케이스에 설치되고, 전극용 전원을 인가할 수 있는 전원 장치; 상기 케이스에 설치되고, 복수개의 가스 배출구가 형성되는 가스 배출판; 및 상기 가스 배출판과 이격되도록 상기 수용 공간에 설치되고, 상기 전원 장치와 전기적으로 연결되며, 복수개의 단위 전극 기판

대표청구항

내부에 수용 공간이 형성되는 케이스;상기 케이스에 설치되고, 상기 수용 공간에 공정 가스를 공급할 수 있는 가스 공급관;상기 케이스에 설치되고, 전극용 전원을 인가할 수 있는 전원 장치;상기 케이스에 설치되고, 복수개의 가스 배출구가 형성되는 가스 배출판; 및상기 가스 배출판과 이격되도록 상기 수용 공간에 설치되고, 상기 전원 장치와 전기적으로 연결되며, 복수개의 단위 전극 기판들이 길이 방향으로 길게 배치되도록 복수개의 상기 단위 전극 기판들이 적어도 일렬을 이루어서 연달아 배치되는 멀티 전극 기판;을 포함하고,상기 전원 장치는,

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치 | 김태완, 이창헌, 방진혁, 한영호
  2. [한국] 플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 대기압 플라즈마 표면처리 장치 | 안경준, 정성훈, 장근원
  3. [일본] PLASMA TREATMENT DEVICE | ANZAI JUNICHIRO, NAKANO YOSHINORI, KAWASAKI SHINICHI, NAKATAKE SUMIO, MAYUMI SATOSHI, MIYAMOTO EIJI, TAKEUCHI TOSHIKIMI

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 대기압 플라즈마 처리 장치 | 이해룡, 조태호, 손다은, 박시원, 이정우, 이문선
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