초록

구현예는 블랭크 마스크, 포토마스크의 제조방법, 포토마스크 등에 대한 것으로, 구현예의 블랭크 마스크는 고투과율 영역과 저투과율 영역을 동일한 마스크 내에 구현 가능한 다층 구조를 가져서, 보다 향상된 내구성을 가지면서 사이드 로브 등의 문제 발생 없이 2 가지 이상의 투과율을 가지는 포토마스크를 구현할 수 있는 블랭크 마스크를 제공할 수 있다.

대표청구항 ▼

서로 마주보는 제1기판면과 제2기판면을 갖는 광투과성 기판; 상기 광투과성 기판 상에 위치하며 투과하는 빛의 위상차와 투과율을 조절하는 조절층; 및상기 조절층 상에 위치하고 투과하는 빛의 위상차를 조절하는 상부투과율조절층;을 포함하고,상기 조절층은, 다층막 및 기저위상조절층을 포함하고,상기 다층막은, 상부위상조절층; 그리고 하부투과율조절층을 포함하고, 상기 상부위상조절층은 규소를 포함하고 위상차를 조절하고,상기 하부투과율조절층은 금속을 포함하고 위상차 및 투과율을 조절하고,상기 기저위상조절층은 상기 광투과성 기판과 상기 다층막의 사

서로 마주보는 제1기판면과 제2기판면을 갖는 광투과성 기판; 상기 광투과성 기판 상에 위치하며 투과하는 빛의 위상차와 투과율을 조절하는 조절층; 및상기 조절층 상에 위치하고 투과하는 빛의 위상차를 조절하는 상부투과율조절층;을 포함하고,상기 조절층은, 다층막 및 기저위상조절층을 포함하고,상기 다층막은, 상부위상조절층; 그리고 하부투과율조절층을 포함하고, 상기 상부위상조절층은 규소를 포함하고 위상차를 조절하고,상기 하부투과율조절층은 금속을 포함하고 위상차 및 투과율을 조절하고,상기 기저위상조절층은 상기 광투과성 기판과 상기 다층막의 사이에 배치되어 투과하는 빛의 위상차를 조절하고,상기 상부위상조절층은 상기 하부투과율조절층과 상기 상부투과율조절층 사이에 배치되고,상기 상부위상조절층은 SiO2 또는 SiN을 포함하고,상기 기저위상조절층의 양 면 중에서, 상기 제2기판면과 가깝게 위치하는 면이 제1기저면이고, 상기 제1기저면과 서로 마주보며 상기 제2기판면과 멀리 위치하는 면이 제2기저면이고, 상기 다층막의 양 면 중에서, 상기 제2기판면과 가깝게 위치하는 면이 제1막면이고, 상기 제2기판면과 멀리 위치하는 면이 제2막면이고,고투과영역 투과광은 상기 제1기판면으로 입사하여 상기 제2막면을 나오는 빛이고,기판투과광은 상기 제1기판면으로 입사하여 상기 제2기판면을 나오는 빛이고,상기 고투과영역 투과광과 상기 기판투과광의 위상차는 160 내지 200°인,블랭크 마스크.