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[한국특허] 블랭크마스크 및 포토마스크 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • G03F-001/26
  • G03F-001/38
출원번호 10-2020-0118274 (2020-09-15)
공개번호 10-2022-0036100 (2022-03-22)
등록번호 10-2468553-0000 (2022-11-15)
DOI http://doi.org/10.8080/1020200118274
발명자 / 주소
  • 김동건 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
  • 김세민 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
  • 공종규 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
  • 문경찬 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
  • 이종민 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
출원인 / 주소
  • 주식회사 에스앤에스텍 / 대구광역시 달서구 호산동로 ** (호림동)
대리인 / 주소
  • 허성원; 이동욱; 서동헌
심사청구여부 있음 (2020-09-15)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

블랭크마스크는 투명 기판상에 형성된 MoSi 재질의 위상반전막과 Cr 을 포함하는 재질의 차광막을 구비한다.차광막은 투명 기판상에 순차 적층된 제1차광층, 제2차광층 및 반사방지층을 구비한다.반사방지층의 굴절률은 제2차광층보다 크고, 제1차광층의 굴절률은 제2차광층보다 크다.반사방지층의 낮은 표면 반사율과 차광막의 차광 성능이 확보되면서도 차광층의 두께를 줄일 수 있으므로, 고해상도 패턴 형성이 가능한 포토마스크를 제작할 수 있다.

대표청구항

투명 기판상에 형성된 차광막을 구비하는 FPD 용 블랭크마스크로서,상기 차광막은 크롬(Cr)으로 형성되거나, 크롬(Cr)에 질소(N), 산소(O), 탄소(C) 중 어느 하나 이상을 포함하는 크롬 화합물로 구성되고,상기 차광막은 상기 투명 기판상에 순차 적층된 제1차광층, 제2차광층 및 반사방지층을 포함하며,상기 반사방지층의 굴절률 및 상기 제1차광층의 굴절률은 상기 제2차광층보다 크고, 상기 제1차광층과 상기 제2차광층은 0.3 이하의 굴절률 차이를 갖고,상기 제1차광층은 상기 제2차광층보다 높은 소멸계수를 갖고, 상기 제1차광층과

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 포토마스크 블랭크 및 포토마스크 그리고 포토마스크의 제조 방법 | 오사무 노자와
  2. [한국] 포토마스크 블랭크 및 이것을 사용한 포토마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법 | 우시다 마사오, 즈보이 세이지, 야스모리 준이찌, 아야마 겐지
  3. [일본] PHASE SHIFT MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE | TANIGUCHI KAZUTAKE, TSUBOI SEIJI, USHIDA MASAO
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