초록 ▼

본 발명은, 타겟에 근접한 셔터를 폐쇄한 상태에서 프리스퍼터를 행하고 개방한 상태에서 본스퍼터를 행하는 처리를 반복할 때에, 셔터의 실드 라이프를 길게 할 수 있는 스퍼터 방법 및 스퍼터 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.타겟과, 타겟에 근접하여 설치된 셔터를 갖는 스퍼터 장치에 의한 스퍼터 방법은, 셔터의 차폐부에 의해 타겟을 차폐한 상태에서, 상기 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜 프리스퍼터를 행하는 공정과, 프리스퍼터하는 공정 후, 셔터의 개구부를 타겟에 대응시킨 상태에서, 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜, 성막 대상에

본 발명은, 타겟에 근접한 셔터를 폐쇄한 상태에서 프리스퍼터를 행하고 개방한 상태에서 본스퍼터를 행하는 처리를 반복할 때에, 셔터의 실드 라이프를 길게 할 수 있는 스퍼터 방법 및 스퍼터 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.타겟과, 타겟에 근접하여 설치된 셔터를 갖는 스퍼터 장치에 의한 스퍼터 방법은, 셔터의 차폐부에 의해 타겟을 차폐한 상태에서, 상기 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜 프리스퍼터를 행하는 공정과, 프리스퍼터하는 공정 후, 셔터의 개구부를 타겟에 대응시킨 상태에서, 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜, 성막 대상에 스퍼터 입자를 퇴적시키는 본스퍼터를 행하는 공정을 가지며, 프리스퍼터를 행하는 공정과, 본스퍼터를 행하는 공정을 반복하여 행할 때에, 프리스퍼터하는 공정의 셔터의 위치를 변화시켜, 셔터의 차폐부의 타겟에 대응하는 위치를 변화시킨다.

대표청구항 ▼

타겟과, 상기 타겟에 근접하여 설치되고, 상기 타겟을 개폐 가능한 셔터를 갖는 스퍼터 장치에 의한 스퍼터 방법으로서,상기 셔터의 차폐부에 의해 상기 타겟을 차폐한 상태에서, 상기 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜 프리스퍼터를 행하는 공정과,상기 프리스퍼터하는 공정 후, 상기 셔터의 개구부를 상기 타겟에 대응시킨 상태에서, 상기 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜, 성막 대상에 스퍼터 입자를 퇴적시키는 본(本)스퍼터를 행하는 공정을 포함하며,상기 프리스퍼터를 행하는 공정과, 상기 본스퍼터를 행하는 공정을 반복하여 행할 때에, 상기

타겟과, 상기 타겟에 근접하여 설치되고, 상기 타겟을 개폐 가능한 셔터를 갖는 스퍼터 장치에 의한 스퍼터 방법으로서,상기 셔터의 차폐부에 의해 상기 타겟을 차폐한 상태에서, 상기 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜 프리스퍼터를 행하는 공정과,상기 프리스퍼터하는 공정 후, 상기 셔터의 개구부를 상기 타겟에 대응시킨 상태에서, 상기 타겟으로부터 스퍼터 입자를 방출시켜, 성막 대상에 스퍼터 입자를 퇴적시키는 본(本)스퍼터를 행하는 공정을 포함하며,상기 프리스퍼터를 행하는 공정과, 상기 본스퍼터를 행하는 공정을 반복하여 행할 때에, 상기 프리스퍼터하는 공정의 상기 셔터의 위치를 변화시켜, 상기 차폐부의 상기 타겟에 대응하는 위치를 변화시키는 것인 스퍼터 방법.