[특허]반도체 세정 장비의 웨이퍼부 상장치

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[한국특허] 반도체 세정 장비의 웨이퍼부 상장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개실용신안
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/304
출원번호	20-1997-0045405 (1997-12-31)
공개번호	20-1999-0032640 (1999-07-26)
DOI	http://doi.org/10.8080/2019970045405
발명자 / 주소	노오택 / 경상북도 구미시 황상동 화진금봉아파트 *동 **호
출원인 / 주소	현대반도체 주식회사 / 충북 청주시 흥덕구 향정동 *번지
대리인 / 주소	박장원 (PARK, Jang Won) 서울특별시 강남구 논현동 ***번지
심사청구여부	있음 (1997-12-31)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록

본 고안은 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로, 종래에는 세정작업시 웨이퍼와 카세트의 접촉면적이 넓어서 세정효과가 저하되는 문제점이 있었다. 본 고안 반도체 웨이퍼 세정장치는 받침대(2)의 상면에 형성된 2곳의 카세트 장착부(4)(4')에 각각 쿼츠 바(10)를 설치하여, 카세트 장착부(4)(4')에 웨이퍼(W)들이 탑재된 카세트(6)를 장착시 웨이퍼(W)들이 일정높이로 올려지도록 함으로써, 세정작업시 웨이퍼들이 카세트에 접촉하는 접촉면적을 종래 보다 감소시키게 되어 세척효과를 향상시키는 효과가 있다.

대표청구항

베스의 내측에 카세트를 장착하기 위한 받침대가 설치되어 있고, 그 받침대의 내측에 일정간격을 두고 2개의 케미컬공급라인이 설치되어 있는 반도체 웨이퍼 세정장치에 있어서, 상기 받침대의 상면에 카세트의 장착시 웨이퍼들을 일정높이로 들어올리기 위한 수개의 웨이퍼 상승부재를 설치하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치.

이 특허에 인용된 특허 (2)

[일본] WAFER HANDLING DEVICE FOR CLEANING WAFER | KAMETANI SHIGEJI, IMAIZUMI MASABUMI, INAGAKI KIYOHIKO, OTANI TAIICHI, MASHITA NORIYOSHI
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[일본] SOLUTION PROCESSOR OF SUBSTRATE AND SOLUTION PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE USING THE SAME | INAGAKI YASUSHI, AIBA TAKESHI
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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