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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | GB-0050873 (2013-04-03) |
공개번호 | WO-0150299 (2013-10-10) |
우선권정보 | GB-201206096 (2012-04-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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A method of depositing a material on a substrate using an atomic layer deposition process, wherein the deposition process comprises a first deposition step, a second deposition step subsequent to the first deposition step, and a delay of at least one minute between the first deposition step and the
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