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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0028372 (2017-04-19) |
공개번호 | WO-0184736 (2017-10-26) |
우선권정보 | US-201615133261 (2016-04-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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A processing apparatus may include a plasma chamber to house a plasma and having a main body portion comprising an electrical insulator; an extraction plate disposed along an extraction side of the plasma chamber, the extraction plate being electrically conductive and having an extraction aperture;
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