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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
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연구책임자 | 박태진 |
참여연구자 | 임태훈 , 오인환 , 허윤준 , 이상봉 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1993-09 |
주관부처 | 과학기술부 |
과제관리전문기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200007505 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 |
플라즈마.화학증착.a-SiiH막.ECR 화학증착법. |
=== 연구 개발 목표 및 내용 === \\ ECR CVD 장치의 설계 및 제작의 국산화 \\ 제작된 ECR CVD 장치의 세부사항 점검 \\ ECR CVD 장치를 사용한 박막 (a-SiH, Si/sub 2/N/sub 4/, SiO/sub 2/, Epi-Si)의 저온 고속 증착의 가능성 타진 및 증착 특성 연구 === 연구 결과 === \\ 국내 기술에 의하여 ECR CVD 장비의 설?== 연구 결과 === \\ 국내 기술에 의하여 ECR CVD 장비의 설계 및 조립로파 발생기 제외) 완수 \\ 기초실험을 통한 제작장비의 점검 \\
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