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공업화 공정기술 개발;ECR CVD 박막제조 공정 개발
A Study on Deposition of Thin Film by ECR Method 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
연구책임자 박태진
참여연구자 임태훈 , 오인환 , 허윤준 , 이상봉
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1993-09
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
등록번호 TRKO200200007505
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 플라즈마.화학증착.a-SiiH막.ECR 화학증착법.$SiO_2$막.$Si_3$$N_4$막.Plasma.CVD.ECR.Silicon Dioxide.Silicon.Nitride.Epi-Si.

초록 ▼

=== 연구 개발 목표 및 내용 === \\ ECR CVD 장치의 설계 및 제작의 국산화 \\ 제작된 ECR CVD 장치의 세부사항 점검 \\ ECR CVD 장치를 사용한 박막 (a-SiH, Si/sub 2/N/sub 4/, SiO/sub 2/, Epi-Si)의 저온 고속 증착의 가능성 타진 및 증착 특성 연구 === 연구 결과 === \\ 국내 기술에 의하여 ECR CVD 장비의 설?== 연구 결과 === \\ 국내 기술에 의하여 ECR CVD 장비의 설계 및 조립로파 발생기 제외) 완수 \\ 기초실험을 통한 제작장비의 점검 \\

목차 Contents

  • 제 1 장 서 론...29
  • 제 2 장 ECR 플라즈마 화학증착 장치...31
  • 2.1 장치의 개요...31
  • 2.2 반응기의 압력...35
  • 2.3 반응기내 전자기파의 자기밀도...36
  • 2.4 ECR 장비의 조작 순서...39
  • 제 3 장 a-Si:H막의 증착...44
  • 3.1 a-Si:H막의 증착에 관한 문헌조사...44
  • 3.2 실 험...46
  • 3.2.1 실험장치...46
  • 3.2.2 실험방법...48
  • 3.2.3 측정방법...49
  • 3.3 실험결과 및 고찰...51
  • 3.3.1 증착시간과 ECR 위치의 영향...51
  • 3.3.2 수소함량과 증착속도와의 관계...55
  • 3.3.3 조업변수와 증착속도와의 관계...62
  • 3.3.4 조업변수와 막 표면과의 관계...66
  • 제 4 장 $Si_3N_4$ 막의 증착...72
  • 4.1 $Si_3N_4$ 막의 증착에 관한 문헌조사...72
  • 4.1.1 $Si_3N_4$ 막의 기본 성질...72
  • 4.1.2 $Si_3N_4$ 막의 증착법...74
  • ⑴ 열 CVD법...74
  • ⑵ 플라즈마 CVD법...75
  • ⑶ 광 CVD 및 레이져 CVD...78
  • ⑷ ECR 플라즈마 화학증착법...80
  • 4.2 실 험...80
  • 4.2.1 실험장치...80
  • 4.2.2 실험방법...81
  • 4.2.3 측정방법...81
  • 4.3 실험결과 및 고찰...82
  • 4.3.1 증착속도 (Deposition rate)...82
  • 4.3.2 굴절율 (Refractive index)...92
  • 4.3.3 수소 함유량 (Hydrogen content)...98
  • 제 5 장 $SiO_2$ 막의 증착...103
  • 5.1 SiO 막의 증착에 관한 문헌조사...103
  • 5.1.1 $SiH_4/N_2O$ 계...104
  • 5.1.2 $SiH_2Cl_2/N_2O$ 계...105
  • 5.1.3 TEOS (Tetraethoxysilane)...107
  • 5.1 4 $SiH_4/O_2$계...111
  • 5.1.5 ECR 플라즈마 CVD를 이용한 $SiO_2$ 막의 증착...113
  • 5.2 실 험...114
  • 5.2.1 실험장치...114
  • 5.2.2 실험방법...114
  • 5.2.3 측정방법...115
  • 5.3 실험결과 및 고찰...117
  • 5.3.1 증착속도 (Deposition rate)...117
  • 5.3.2 굴절율 (Refractive index)...125
  • 5.3.3 Fourier Tansformation Infrared spectroscopy (FTIR)...129
  • 제 6 장 Epitaxial Silicon막...135
  • 6.1 Epi-Si 증착에 관한 문헌 조사...135
  • 6.1.1 가열방법...135
  • 6.1.2 성장반응의 형식...137
  • 6.1.3 원료기체...138
  • 6.1.4 주변기술...138
  • 6.1.5 Epi-Si 박막의 성질...138
  • 6.1.6 ECR 플라즈마 화학 증착법을 이용한 Epi-Si의 증착...142
  • 6.2 실 험...143
  • 6.2.1 실험방법...143
  • 6.2.2 측정방법...144
  • 6.3 결과 및 고찰...145
  • 제 7 장 결 론...152
  • 참 고 문 헌...155
  • 부록...161

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참고문헌 (25)

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