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고 전력용 GaAs MESFET의 공정 기술 개발
Process Development for High Power GaAs MESFET''s 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 동국대학교
DongGuk University
연구책임자 이진구
참여연구자 김도현 , 신재호
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1991-03
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 동국대학교
DongGuk University
등록번호 TRKO200200013757
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 출력이 0.5-3 W 인 고전력 GaAs MESFET 의 제작가능한 공정 설계와 단위소자인 GaAs MESFET의 공정기술을 개발함.Developing the process design for high power GaAs MESFET of output power 0.5-3W and process development for GaAs MESFET of unit device.

초록

오늘날 정보화 사회를 지향하는 선진각국은 물로 기존통신망의 불비한 점을 한꺼번에 해결하려는 개발도상국들은 새로운 정보 전달수단으로써 위성통신을 현재 국내외 통신망에 이용하고 있거나 도입을 추진하고 있다. 그러므로 대량의 정보를 신속하고 정확하게 전달하기 위한 전자통신 기술에 있어서 반도체소자의 개발은 필수적인 요인이다.
고전력 GaAs MESFET는 초고주파 소자의 하나로 여러분야에서 사용되고 있으며 특히 위성통신을 위한 아나로그와 디지탈 전파통신 시스템에서 고전력증폭기의 active소자로 사용되고 있다.

Abstract

Nowadays, not only the developed contries aiming at the informationalized society, but also the developing contries intending to solve at once defects of the existing communication networks, have been made use of satellite communication in domestic and outside communication networks or, by means of

목차 Contents

  • 1. 서 론...6
  • 2. GaAs power MESFET 이론...8
  • 3. GaAs power MESFET 설계...28
  • 4. GaAs MESFET 제작 및 특성 측정...46
  • 5. 결 론...72
  • 인용문헌...74

참고문헌 (25)

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