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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)테스 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2010-12 |
과제시작연도 | 2008 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
과제관리전문기관 | 한국산업기술평가원 |
등록번호 | TRKO201200006354 |
과제고유번호 | 1425050071 |
사업명 | 중소기업기술혁신개발 |
DB 구축일자 | 2013-05-20 |
키워드 | EPMA.Back Electrode.Sputtering.ZnO:Al(AZO).ZnO:Ga(GZO).Thin film Solar Cell. |
1. 기술개발목표
가. 고효율 Cathode Design 기술 확보((주)테스, KAIST)
나. 태양전지 배면전극용 Al doped ZnO 스퍼터링 장비 개발
다. Gas Control S/W 및 고진공 H/W 기술확보
라. 태양전지 배면전극용 Al doped ZnO 공정 개발((주)테스, 한국산업기술대학교)
2. 기술개발의 목적 및 중요성
가. 실리콘은 간접 천이형 물질로서 광흡수계수가 다른 화합물 박막(CdTe, CuInse2)에 비해 낮아 두께 수 마이크론 이하의 박막형으로 제조될 경우 태양광
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