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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)비아트론 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2010-05 |
과제시작연도 | 2009 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201200006455 |
과제고유번호 | 1425054075 |
사업명 | 중소기업기술혁신개발 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | APCVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition).TCO(Transparent Conductive Oxide).Injector.SnO2.TTC.Furnace.Laminar Flow. |
● 슈퍼컴퓨터를 이용 CFD(Computational Fluid Dynamics)Simulation 결과를 통한 최적의 Injector 설계 기술.
- Diffuser의 Hole의 사이즈, 간격의 최적화를 통한 Nozzle까지의 균일한 유량의 가스 전달 System 기술.
- Nozzle부 형상 설계 기술의 확보를 통한 증착균일도 제어 기술.
● 배기 시스템의 최적화를 통한 가스유동의 층류흐름유도 및 원활한 반응후가스 배출 기술 획득으로 인한 증착균일도 및 부산물(Particle)제어 기술.
● 인젝터 모듈의
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