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NTIS 바로가기주관연구기관 | 리드엔지니어링 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-03 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201500014735 |
과제고유번호 | 1425078832 |
사업명 | 구매조건부신제품개발사업 |
DB 구축일자 | 2015-10-03 |
키워드 | Diffusion.Furnace.Annealing.Power Device Furnace.High Temp Furnace. |
□ 개발목표
계획
파워반도체생산에적합한 200mm용 High Temp Process Furnace 장비 및 공정 개발
실적
파워반도체생산에 적합한 200mm용 High Temp Process Furnace 장비 및 공정개발완료
□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. Wafer Capa : 계획(150매), 실적( 150매/Tube)
2. Flat Zone : 계획(1000mm), 실적(1000mm)
3. Temp Stability : 계획(1250℃ ±0.5℃), 실적(1250℃±0.5
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