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NTIS 바로가기주관연구기관 | 국제엘렉트릭코리아(주) |
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연구책임자 | 이헌 |
참여연구자 | 인기철 , 최병덕 , 박정우 , 김대현 , 손현철 , 채희엽 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2012-11 |
과제시작연도 | 2011 |
주관부처 | 지식경제부 Ministry of Knowledge Economy |
등록번호 | TRKO201700001120 |
과제고유번호 | 1415117591 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발 |
DB 구축일자 | 2017-09-20 |
키워드 | 갭필.유동성박막.실리콘산화막.실라놀.수축률. |
□ 최종목표
1. 유동 절연막 증착 및 Densification 공정 및 장비 개발
2. 최적화된 Si 계열의 전구체 (Precursor) 개발
3. 액상 전구체(Precursor)의 정량 Delivery System 개발
□ 개발내용 및 결과
현재까지 개발된 Flowable Oxide의 경우 30nm급 이하에서는 기술 한계성으로 박막 밀도 저하, Gap-Fill, 생산성에 문제가 있었으나, 본 기술은 Insitu Depo-Treatment Cyclic CVD 방식을 적용,Nano Layer 단위로
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