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Kafe 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 장홍영 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2016-07 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO201800039541 |
과제고유번호 | 1711026099 |
사업명 | 전자정보디바이스산업원천기술개발 |
DB 구축일자 | 2018-11-03 |
키워드 | 플라즈마 진단.모니터링.플라즈마 밀도.전자 온도.플라즈마.비침투식.이상진단.빛 방출분석.임피던스 측정.데이터마이닝.하드마스크.다중 주파수.식각.비정질 카본.펄스.주파수.시뮬레이션. |
□ 핵심기술
차세대 반도체 및 디스플레이 공정에 사용될 수 있는 진단, 공정, 소스, 시뮬레이션 기술
□ 최종목표
10nm 급 반도체 및 10세대 디스플레이 식각장비개발에 사용할 수 있는 핵심 원천기술개발
□ 개발내용 및 결과
1. 주관기관(KAIST) : 대면적 플라즈마의 공정 적용을 위한 특성 연구 및 data 확보
2. 참여기관(한양대학교) : 비 침투식 펄스 플라즈마 밀도 및 전자온도 진단장치 개발
3. 참여기관 (성균관대학교) :
가) 진단 : 민감도가 향상된 장비
□ 핵심기술
차세대 반도체 및 디스플레이 공정에 사용될 수 있는 진단, 공정, 소스, 시뮬레이션 기술
□ 최종목표
10nm 급 반도체 및 10세대 디스플레이 식각장비개발에 사용할 수 있는 핵심 원천기술개발
□ 개발내용 및 결과
1. 주관기관(KAIST) : 대면적 플라즈마의 공정 적용을 위한 특성 연구 및 data 확보
2. 참여기관(한양대학교) : 비 침투식 펄스 플라즈마 밀도 및 전자온도 진단장치 개발
3. 참여기관 (성균관대학교) :
가) 진단 : 민감도가 향상된 장비 진단 장치 개발
나) 공정 : 다중 주파수의 조합과 RF pulsing 기법을 통한 공정용 박막물질 특성 data 확보
다) 소스 : 초대면적 디스플레이 공정을 위한 플라즈마 소스 및 분석기술 확보
4. 참여기관 (한국항공대학교) : 디스플레이 공정용 ICP 장비 플라즈마 simulation 기술을 타 세부에 적용
5. 참여기관 (고려대학교) : 디스플레이 소자용 저온 절연막의 식각 공정 원천기술 확보
□ 기술개발 배경
차세대 공정에 요구되는 기술을 확보하여 반도체 및 디스플레이 장비의 국산화도를 개선하고자 함
□ 핵심개발 기술의 의의
장비에 사용되는 플라즈마의 특성을 연구함과 동시에 핵심 특허를 확보하여 차세대 반도체 및 디스플레이 장비 시장에서의 경쟁 기반을 확보
□ 적용 분야
- 반도체 분야
1. 차세대 10nm 급 플라즈마 공정과 그 진단
2. 플라즈마 공정 장비의 소스 설계
- 디스플레이 분야
1. 초대면적 공정용 플라즈마 소스
2. 대면적 플라즈마 시뮬레이션
( 출처: 최종보고서 초록 - 3. 개발결과 요약 5p )
과제명(ProjectTitle) : | - |
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연구책임자(Manager) : | - |
과제기간(DetailSeriesProject) : | - |
총연구비 (DetailSeriesProject) : | - |
키워드(keyword) : | - |
과제수행기간(LeadAgency) : | - |
연구목표(Goal) : | - |
연구내용(Abstract) : | - |
기대효과(Effect) : | - |
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