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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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연구책임자 | 조한철 |
참여연구자 | 문형순 , 김형재 , 이상직 , 김도연 , 이태경 , 정영 , 박병건 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2018-11 |
과제시작연도 | 2018 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO201900013858 |
과제고유번호 | 1711079285 |
사업명 | 한국생산기술연구원연구운영비지원(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2019-09-07 |
제 1 장 개 요
제 1 절 연구개발(지원) 목표
1. 개발목표
ㅇ 반도체 제조 핵심공정인 Chemical Mechanical Polishing (CMP) 장비의 Pad의 profile 실시간 측정 기술과 컨디셔너 구조 최적화 설계를 통하여 Pad 평탄도 향상
- Real time profile control을 위한 센서 측정 반복정밀도 5μm 이내 확보 가능한 profile 측정 기술 개발
- 컨디셔너 압력 5 lbf 인가 시 3초이내 2%의 오차범위로 조절 가능한 컨디셔너 구조 개발
- 연마 균일
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