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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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연구책임자 | 권오형 |
참여연구자 | 이준용 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-08 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO202100008221 |
과제고유번호 | 1711100996 |
사업명 | 한국생산기술연구원연구운영비지원(R&D)(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2021-08-14 |
키워드 | 반도체.디스플레이.플라즈마공정.음의전위차.RF 파워.Semiconductor.Display.Plasma processing.Negative potential.RF power. |
□ 기업의 애로사항
○ 플라즈마 식각공정의 생산성 및 정확성을 결정하는 음의 전위차를 정확하게 측정하는 기술이 매우 중요하나, 센서 H/W 및 응용 S/W 를 개발하기 위해 그 원리에 대한 이해 부족과 정확한 수식에 대한 정보와 이해가 부족함
□ 지원(해결) 내용
○ Wire 및 Connector type의 접족식 전위차 모니터링 센서 개발 및 성능 평가
○ 응용 S/W에서 offset이 적용된 Sine wave의 실측 평가 및 정상 작동 확인
□ 지원 성과
○ 정성적 성과
- 플
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