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NTIS 바로가기주관연구기관 | 나노종합기술원 |
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연구책임자 | 한창희 |
참여연구자 | 김명수 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-12 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100009472 |
과제고유번호 | 1711100226 |
사업명 | 한국과학기술원부설나노종합기술원지원(R&D) |
DB 구축일자 | 2021-08-28 |
키워드 | 고평탄화.반도체.하드마스크.High planarization.Semiconductor.Hardmask. |
연구목표
□최종 목표
10:1 이상 높은 종횡비 구조의 메모리 반도체 단차 개선을 위한 고평탄화 특성 및 Gap-fill 특성을 갖는 스핀코팅 하드마스크 소재 개발
□세부 목표
·신규 평탄화 특성을 갖는 폴리머 개발
·Gap-fill 및 평탄화 특성을 구현하는 신규 하드마스크 조성비 조정 기술 개발
·폴리머 대량 중합 및 정제기술 개발
연구내용
1) 평탄화 특성을 가지는 폴리머 및 이를 조절하는 기술 개발
• 주 사슬 내에 유연성을 가지는 폴리머 삽입을 통해 평탄화 특성 부여<
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