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문제 정의
- MFC가 진공에 머무르게 되면, 외부의 헬륨 가스 주입기를 이용하여 MFC 주변에 분사를 시킨다. 그러면 MFC 외부에서 내부로 헬륨이 들어가면서 MFC 챔버 내로 헬륨의 주입 정도를 판단하면서 누설량을 측정하는 것이다. 본 연구에서는 VARIAN사의 모델 979인 헬륨 누설 장치를 사용하였다.
- 본 연구에서는 반도체 제조 장비의 핵심 부품 중 하나인 가스 유량 제어 장치의 개발은 위하여, 각종 질량 유량계 및 유량 제어 장치의 원리, 구조 등을 비교 분석하였다. 또한 본 연구의 최종 목적인 차압식 MFC의 원리에 대해 이해하고 차압식 MFC를 구성하는 차압 센서, 베이스 블록, 밸브 어셈블리 및 제어 회로 기판 등을 개발하고 이의 성능을 검증하였다. 마지막으로 개발된 구성품들을 이용하여 시제품을 개발하고 MFC의 주요 핵심 성능인 정확성, 선형성 및 응답 시간등을 측정하여 상용화된 MFC와 그 성능을 비교하였다.
- 본 개발의 최종 목표는 full scale의 ±1.0%이하로 MFC의 핵심 성능 중의 하나이다.
- 본 연구는 반도체 제조에 사용되는 가스를 대상으로 가스 질량 유량 제어 원리, 제어 장치의 구조, 장치의 제작에 필요한 요소 기술을 파악하고 확립하여 첨단 반도체 제조 장비에 적용될 수 있는 반도체 제조 공정용 차압식 MFC를 개발하는데 그 목적이 있다.
- 본 연구에서는 반도체 제조 장비의 핵심 부품 중 하나인 가스 유량 제어 장치의 개발은 위하여, 각종 질량 유량계 및 유량 제어 장치의 원리, 구조 등을 비교 분석하였다. 또한 본 연구의 최종 목적인 차압식 MFC의 원리에 대해 이해하고 차압식 MFC를 구성하는 차압 센서, 베이스 블록, 밸브 어셈블리 및 제어 회로 기판 등을 개발하고 이의 성능을 검증하였다.
- 차압형은 가스의 흐름에 의해 발생하는 압력차를 측정하는 방식으로 다이아프램(diaphragm)과 같은 얇은 막을 사용하는 것이 일반적이다. 본 연구에서는 차압형 가스 유량 센서를 개발하였다.
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