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용액 공정으로 제작된 주석-아연 산화물의 조성 변화에 따른 특성 변화 분석
Analysis on the Property Modification in Solution-processed SnZnO Through Composition Ratio Controlling 원문보기

전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.25 no.6, 2012년, pp.414 - 419  

김동림 (연세대학교 전기전자공학과) ,  임유승 (연세대학교 전기전자공학과) ,  정웅희 (연세대학교 전기전자공학과) ,  김현재 (연세대학교 전기전자공학과)

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In this paper, the properties of SnZnO films obtained from solution process with different component fractions were compared. The thermal behavior of the SnZnO solutions showed only a slight change according to the component fraction change. However, the definite changes were revealed at the structu...

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문제 정의

  • 본 연구에서는 InGaZnO를 대체하기 위한 물질로써 용액 공정으로 제작된 SnZnO의 가능성을 확인하였으며, 특히 물질 내의 주석 대 아연 조성비의 변화에 따른 물성 변화를 분석하였다. XRD 측정 결과, SnZnO 박막은 주석과 아연이 공통으로 포함되어 있어도 두 원소가 결합된 2원 산화물 형태보다 1원 산화물 형태로 격자를 형성하는 것으로 나타났으며, 그럼에도 박막이 보이는 광학적 흡수도 특성은 주석과 아연의 비율에 따라 결정되는 것으로 확인되었다.
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질의응답

핵심어 질문 논문에서 추출한 답변
TAOS 물질은 어느 분야에 사용될 수 있는가? 투명 비정질 산화물 반도체 (transparent amorphous oxide semiconductor, TAOS)라는 전자 소재의 개념이 제안된 이래로, 본 물질의 탁월한 특성에 대해 보고하는 연구가 지속적으로 수행되어 왔다 [1]. TAOS 물질은 대면적 증착 적합성, 탁월한 전기 전도도 및 광학적 투명성으로 인해 평판 디스플레이나 태양전지 등의 전기광학적인 응용 분야에서 널리 사용될 것으로 기대되고 있다 [2,3]. 이러한 TAOS 물질 가운데 가장 주목받고 있는 것이 인듐-갈륨-아연 산화물 (InGaZnO) 이다.
투명 비정질 산화물 반도체의 장점은? 투명 비정질 산화물 반도체 (transparent amorphous oxide semiconductor, TAOS)라는 전자 소재의 개념이 제안된 이래로, 본 물질의 탁월한 특성에 대해 보고하는 연구가 지속적으로 수행되어 왔다 [1]. TAOS 물질은 대면적 증착 적합성, 탁월한 전기 전도도 및 광학적 투명성으로 인해 평판 디스플레이나 태양전지 등의 전기광학적인 응용 분야에서 널리 사용될 것으로 기대되고 있다 [2,3]. 이러한 TAOS 물질 가운데 가장 주목받고 있는 것이 인듐-갈륨-아연 산화물 (InGaZnO) 이다.
TAOS 물질 가운데 가장 주목받고 있는 것은 무엇인가? TAOS 물질은 대면적 증착 적합성, 탁월한 전기 전도도 및 광학적 투명성으로 인해 평판 디스플레이나 태양전지 등의 전기광학적인 응용 분야에서 널리 사용될 것으로 기대되고 있다 [2,3]. 이러한 TAOS 물질 가운데 가장 주목받고 있는 것이 인듐-갈륨-아연 산화물 (InGaZnO) 이다. 본 산화물에 포함되어 있는 인듐 원자는 구형으로 넓게 퍼진 5s 전자 궤도를 갖고 있어 이들 전자 궤도가 인접한 전자궤도들과 겹쳐진 형태로 전자의 전도경로를 제공하여 비정질 상태에서도 InGaZnO가 안정적인 전기전도도를 보이는 데에 기여하는 것으로 알려져 있다 [4].
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참고문헌 (18)

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  3. A. Gupta and A. D. Compaan, Appl. Phys. Lett., 85, 684 (2004). 

  4. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Nature, 432, 488 (2004). 

  5. E. M. C. Fortunato, L. M. N. Pereira, P. M. C. Barquinha, A. M. Botelho do Rego, G. Goncalves, A. Vila, J. R. Morante, and R. F. P. Martins, Appl. Phys. Lett., 92, 222103 (2008). 

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  17. F. A. Selim, M. H. Weber, D. Solodovnikov, and K. G. Lynn, Phys. Rev. Lett., 99, 085502 (2007). 

  18. G. H. Kim, B. D. Ahn, H. S. Shin, W. H. Jeong, H. J. Kim, and H. J. Kim, Appl. Phys. Lett., 94, 233501 (2009). 

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