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NTIS 바로가기전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers, v.25 no.7, 2012년, pp.496 - 499
Modified structure of copper pillar bump which has trapezoidal cross section on the top region is suggested with simulation results and concept of fabrication process. Due to the large surface area of joint region between bump and solder in suggested structure, electro-migration effect can be reduce...
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핵심어 | 질문 | 논문에서 추출한 답변 |
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구리 기둥을 이용한 플립칩 기술의 문제점은? | 구리 기둥을 이용한 플립칩 기술의 대표적인 장점으로는 고집적이 가능하다는 점과 높은 전도성으로 인한 칩의 성능 개선이 있다 [2]. 하지만 집적도의 증가와 함께 크기가 줄어든 구리기둥에 흐르는 전류의 밀도가 증가하게 되고, 이와 같은 높은 전류밀도에 의해 금속이온 이동현상 (electro migration)이 발생한다 [3]. 이와 같은 금속이온 이동현상은 구리기둥과 솔더 사이의 전류밀도에 의해서 결정된다 [3]. | |
높은 전류밀도에 의한 금속이온 이동현상은 무엇에 의해 결정되는가? | 하지만 집적도의 증가와 함께 크기가 줄어든 구리기둥에 흐르는 전류의 밀도가 증가하게 되고, 이와 같은 높은 전류밀도에 의해 금속이온 이동현상 (electro migration)이 발생한다 [3]. 이와 같은 금속이온 이동현상은 구리기둥과 솔더 사이의 전류밀도에 의해서 결정된다 [3]. 높은 전류밀도의 경우 구리기둥과 솔더 사이의 표면적을 증가시킬 경우 감소시킬 수 있다. | |
구리 기둥을 이용한 플립칩 기술의 장점은? | 이러한 플립칩 기술에서 기존의 솔더볼을 이용하는 방식에 비해서 집적도와 신뢰성을 높일 수 있는 구리 기둥을 사용하는 기술에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다 [1]. 구리 기둥을 이용한 플립칩 기술의 대표적인 장점으로는 고집적이 가능하다는 점과 높은 전도성으로 인한 칩의 성능 개선이 있다 [2]. 하지만 집적도의 증가와 함께 크기가 줄어든 구리기둥에 흐르는 전류의 밀도가 증가하게 되고, 이와 같은 높은 전류밀도에 의해 금속이온 이동현상 (electro migration)이 발생한다 [3]. |
M. T. Lee, J. P. Huang, G. T. Lin, Y. H. Lin, Y. J. Jiang, S. Chiu, and C. M. Huang, 4th International Microsystems, Packaging, Assembly and Circuits Technology Conference (Taipei, Taiwan, 2009) p. 128.
Y. S. Lai, Y. T. Chiu, C. W. Lee, Y. H. Shao, and J. Chen, Proc. 58th Electronic Component and Technology Conference (Lake Buena Vista, USA, 2008) p. 330.
S. Lee, Y. X. Guo, and C. K. Ong, Proc. 6th Electronics Packaging Technology Conference (ShenZhen, China, 2005) p. 135.
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B. Ebersberger and C. Lee, Electronic Components and Technology Conference (2008) p.59.
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