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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-1999-0050325 (1999-11-12) |
| 공개번호 | 10-2001-0046528 (2001-06-15) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1019990050325 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼를 고정하는데 사용되는 정전척(electro static chuck)에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 정전척에 흡착된 웨이퍼를 쿨링하기 위한 구조를 갖는 반도체 제조에 사용되는 정전척에 관한 것이다. 반도체 제조 공정에서 웨이퍼를 고정하는데 사용되는 정전척은 웨이퍼가 로딩되어 흡착되는 상면과, 이 상면의 중심부분에 형성되고 웨이퍼의 백사이드로 쿨링 가스가 플로우되는 제 1 홀들과, 상면의 가장자리부분에 형성되고 웨이퍼의 백사이드로 쿨링 가스가 플로우되는 제 2 홀들 및 상면의 중심부분과 가장
반도체 제조 공정에서 웨이퍼를 고정하는데 사용되는 정전척에 있어서:웨이퍼가 로딩되어 흡착되는 상면과;상기 상면의 중심부분에 형성되고 상기 웨이퍼의 백사이드로 쿨링 가스가 플로우되는 제 1 홀들과;상기 상면의 가장자리부분에 형성되고 상기 웨이퍼의 백사이드로 쿨링 가스가 플로우되는 제 2 홀들 및;상기 상면의 중심부분과 가장자리부분의 중간부분에 형성되고 상기 웨이퍼의 백사이드로 쿨링 가스가 플로우되는 제 3 홀들을 포함하여, 웨이퍼의 백사이드로 균일하게 쿨링 가스가 플로우되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조에 사용되는 정전척.
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