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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0116000 (2008-11-21) |
공개번호 | 10-2010-0057118 (2010-05-31) |
등록번호 | 10-0986805-0000 (2010-10-04) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080116000 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-11-21) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 프로브 스테이션에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예는 반도체 소자의 전기적 특성을 측정하기 위한 프로브 스테이션에 있어서, 내부관찰을 위해 일측에 투명창이 설치되는 챔버, 챔버 내에 설치되고 반도체 소자를 지지하며 평면이동 가능한 척, 척의 내부에 삽입 설치되어 척을 가열하는 전열선, 척의 내부에 삽입 설치되어 척을 냉각시키며 액상 또는 기상의 냉매가 흐르는 냉각라인, 및 척의 상부 일측에 설치되고 반도체 소자의 표면에 접촉되도록 프로브를 이동시키는 매니퓰레이터를 포함하는 온도 가변형 프로브 스테이션을 제공한다.
반도체 소자의 전기적 특성을 측정하기 위한 프로브 스테이션에 있어서,내부관찰을 위해 일측에 투명창이 설치되는 챔버;상기 챔버 내에 설치되고 상기 반도체 소자를 지지하며 평면이동 가능한 척; 상기 척의 내부에 삽입 설치되어 상기 척을 가열하는 전열선;상기 척의 내부에 삽입 설치되어 상기 척을 냉각시키며, 액상 또는 기상의 냉매가 흐르는 냉각라인; 및상기 척의 상부 일측에 설치되고, 상기 반도체 소자의 표면에 접촉되도록 프로브를 이동시키는 매니퓰레이터;를 포함하는 온도 가변형 프로브 스테이션.
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