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[한국특허] 배양 기재, 배양 시트 및 세포 배양 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C12M-003/00
  • A61L-027/56
  • C12N-005/071
출원번호 10-2011-7030767 (2011-12-22)
공개번호 10-2012-0024831 (2012-03-14)
등록번호 10-1512878-0000 (2015-04-10)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2009-148680 (2009-06-23);일본(JP) JP-P-2010-107331 (2010-05-07)
국제출원번호 PCT/JP2010/004145 (2010-06-22)
국제공개번호 WO 2010/150521 (2010-12-29)
번역문제출일자 2011-12-22
DOI http://doi.org/10.8080/1020117030767
발명자 / 주소
  • 다까하시 료오스께 / 일본 ***-**** 도꾜도 지요다꾸 마루노우찌 *쪼메 *방 *고 가부시끼가이샤 히따찌 세이사꾸쇼 지떼끼자이산껜혼부 내
  • 히사다 아끼꼬 / 일본 ***-**** 도꾜도 지요다꾸 마루노우찌 *쪼메 *방 *고 가부시끼가이샤 히따찌 세이사꾸쇼 지떼끼자이산껜혼부 내
  • 소노다 히로시 / 일본 ***-**** 도꾜도 지요다꾸 마루노우찌 *쪼메 *방 *고 가부시끼가이샤 히따찌 세이사꾸쇼 지떼끼자이산껜혼부 내
  • 사이또오 다꾸 / 일본 ***-**** 도꾜도 지요다꾸 마루노우찌 *쪼메 *방 *고 가부시끼가이샤 히따찌 세이사꾸쇼 지떼끼자이산껜혼부 내
출원인 / 주소
  • 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 / 일본국 도쿄토 치요다쿠 마루노우치 *초메 *반 *고
대리인 / 주소
  • 장수길; 성재동
심사청구여부 있음 (2011-12-22)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 소멸

초록

배양 기재 표면에 화학 물질을 도포하는 일 없이, 직경이 일치된 3차원 조직을 형성시키는 기술을 가능하게 하는 배양 시트를 제공한다.배양 기재의 배양 시트 상에, 복수의 홀이 형성되고, 각각의 홀의 저면인 배양면에는, 세포의 접착성이나 유주성을 제어할 수 있는 나노 필러가 형성된다.각 홀의 배양면은, 구획벽을 설치한 구조로 하고, 내부의 나노 필러를, 각 홀의 중심 부근에 형성함으로써, 파종된 세포의 상호 작용을 제한하고, 형성되는 세포의 3차원 구조의 크기를 균일하게 하는 것이 가능해진다.

대표청구항

세포를 배양하는 배양 기재이며,배양 시트와, 상기 배양 시트를 보유 지지하는 배양 시트 보유 지지부를 구비하고,상기 배양 시트는 배양 영역을 갖고, 상기 배양 영역 내에 복수의 돌기가 형성되고,상기 돌기보다도 높고, 또한 상기 배양 시트 보유 지지부에 의해 형성된 측벽보다도 낮은 구획이 상기 배양 영역 내에 형성되고,복수의 3차원 조직의 각각을 보유 지지하는 복수의 홀 구조가 상기 구획에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 배양 기재.

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [일본] MICRO-CHIP OF CELLULAR TISSUE BODY | NAKAZAWA KOJI, FUKUDA JUNJI
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  2. [일본] CELL CULTURE VESSEL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND CULTURED CELL | KUWABARA KOSUKE, MIYAUCHI AKIHIRO, KUNO NORITO
    상세보기
  3. [미국] Cell culturel vessel, production process thereof and cultured cell | Kuwabara,Kosuke, Miyauchi,Akihiro, Kuno,Norihito
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 세포 배양용 용기 | 김동성, 조동우, 최민진, 박주영, 차경제
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