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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0174344 (2019-12-24) | |
공개번호 | 10-2021-0081924 (2021-07-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190174344 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
일 실시 예에 따른 진공 성막 장치는, 메인 챔버; 상기 메인 챔버의 내측에서 이동 가능한 전달 유닛; 상기 전달 유닛으로 트레이를 공급하기 위한 트레이 공급 챔버; 상기 전달 유닛에 장착된 상기 트레이에 기판을 공급하기 위판 기판 공급 챔버; 및 상기 메인 챔버로부터 상기 트레이를 전달받고, 상기 트레이를 이동시켜 상기 기판에 성막을 수행하기 위한 복수 개의 프로세스 라인을 포함하고, 상기 트레이는 상기 복수 개의 프로세스 라인 중 어느 하나의 프로세스 라인으로부터 다른 하나의 프로세스 라인으로 이동 가능하다.
메인 챔버;상기 메인 챔버의 내측에서 이동 가능한 전달 유닛;상기 전달 유닛으로 트레이를 공급하기 위한 트레이 공급 챔버;상기 전달 유닛에 장착된 상기 트레이에 기판을 공급하기 위판 기판 공급 챔버; 및상기 메인 챔버로부터 상기 트레이를 전달받고, 상기 트레이를 이동시켜 상기 기판에 성막을 수행하기 위한 복수 개의 프로세스 라인을 포함하고,상기 트레이는 상기 복수 개의 프로세스 라인 중 어느 하나의 프로세스 라인으로부터 다른 하나의 프로세스 라인으로 이동 가능한 진공 성막 장치.
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