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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-1996-0001200 (1996-01-29) |
공개번호 | 20-1997-0050335 (1997-08-12) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2019960001200 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
[청구범위]속이 빈 원통형상의 하우징에 유입포트 및 배출포토가 형성되어 이루어진 반도체 소자 제조장치의 폐가스 이물 제거용 미스트 트랩에 있어서, 상기 유입포트로 유입된 폐가스에 포함되어 있는 염화암모늄을 용해시키도록 하우징 내부에 중수(중수)를 분사하 는 적어도 하나 이상의 노즐이 설치되고, 하우징 바닥에 상기 중수를 배출하기 위한 배수포트가 형성됨을 특징으로 하는 반도체 소자 제조장치의 폐가스 이물 제거용 미스트 트랩.
대표청구항이 없습니다.
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