[특허]Cylindrical magnetron shield structure

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-014/34
출원번호	US-0647391 (1991-01-29)
발명자 / 주소	Kirs Milan R. (Lafayette CA) Belkind Abraham I. (North Plainfield NJ) Kurie J. Randall (Livingston NJ) Orban Zoltan (Franklin Park NJ) Boehmler Carolynn (Vacaville CA)
출원인 / 주소	The BOC Group, Inc. (New Providence NJ 02)
인용정보	피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 0

초록 ▼

A rotating cylindrical sputtering target surface as part of a magnetron has cylindrical shields adjacent each end of the target to prevent arcing that undesirably occurs when certain materials are being sputtered, particularly dielectrics. If two or more rotating targets are employed in a single magnetron system, each is similarly shielded. In a preferred form, the target is provided with a single cylindrical shield that is cut away for a significant portion of the distance around the cylinder to provide an opening through which a sputtering region of the target is accessible, while maintaining shielding of the target end regions. This preferred shield is rotatable in order to allow the position of the sputtering activity to be selected.

대표청구항 ▼

In a magnetron having a vacuum chamber including therein at least one target structure with an outer cylindrically shaped surface of sputtering material, said target structure being held by first and second support structures at opposite ends thereof in a manner to be rotatable about a longitudinal axis thereof, and a magnet assembly within the target structure that provides a magnetic field zone extending substantially along a length of said sputtering material surface and extending an arrow circumferential distance therearound, the improvement wherein said first and second support structures each include an annular groove concentric with said target structure longitudinal axis and having a diameter greater than an outside diameter of said sputtering material surface, and comprising a cylindrical shield carried at opposite ends thereof by said first and second support structure annular grooves in a manner to be rotatable about said longitudinal axis independently of said target structure, said shield having an opening at least as large as said magnetic field zone and extending around a portion of its circumference and with a length less than a distance between opposite ends of said target structure sputtering surface.

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