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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0647391 (1991-01-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 0 |
A rotating cylindrical sputtering target surface as part of a magnetron has cylindrical shields adjacent each end of the target to prevent arcing that undesirably occurs when certain materials are being sputtered, particularly dielectrics. If two or more rotating targets are employed in a single mag
In a magnetron having a vacuum chamber including therein at least one target structure with an outer cylindrically shaped surface of sputtering material, said target structure being held by first and second support structures at opposite ends thereof in a manner to be rotatable about a longitudinal
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