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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국화학연구원 Korea Research Institute of Chemical Technology |
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보고서유형 | 연차보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2014-12 |
과제시작연도 | 2014 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
과제관리전문기관 | 한국화학연구원 Korea Research Institute of Chemical Technology |
등록번호 | TRKO201500012800 |
과제고유번호 | 1711022429 |
사업명 | 한국화학연구원연구운영비지원 |
DB 구축일자 | 2015-07-18 |
키워드 | 전구체.박막.전산모사.형광체.암열법.precursor.thin film.computer simulation.phosphor.ammonothermal. |
1. 연구목표
1) 최종목표
- 정보전자 산업용 금속 전구체 개발 및 반도체 산업용 박막 증착 공정 (ALD/CVD 진공 공정) 개발
- 전산모사를 활용한 소재특성 규명 및 소재설계 기술 개발
- 고휘도 LED용 질화물 소재 기술 개발
2) 2014년 목표 (총 5년중 5년차)
- 금속 전구체 대량 합성법 확립 및 소자화 공정 확립
- 신뢰성 확보를 위한 질화물 형광체 내구성 향상 기술 개발
- 30 mm급 GaN 단결정 성장기술 개발
2. 주요 연구내용
1) 금속 전구체
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